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在TFT-LCD行业彩色滤光片制造中,大颗色阻残留缺陷对产品的良率影响较大,直接导致制造企业的经济效益下降。因此,如何有效降低光阻残影响是业内一个极具挑战性的工作。分析光阻残缺陷的现象和成因,技术人员通过设备清洁与保养、工艺参数优化改善CF制造过程中大颗光阻残留缺陷。研究表明,提升曝光量、增加显影时间和技术人员作业手法优化、涂布设备清洁优化的联合运用,可以有效改善光阻残的发生状况,使CF量产品光阻残缺陷NG Loss率降低0.69%。