【摘 要】
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日本富士通研究所进行了以砷为源,用真空扩散方式制取发射极的晶体管研究工作。这种方法在提高发射极-基极特性和高频特性方面有显著效果。这种砷发射极扩散方法和以前的掺
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日本富士通研究所进行了以砷为源,用真空扩散方式制取发射极的晶体管研究工作。这种方法在提高发射极-基极特性和高频特性方面有显著效果。这种砷发射极扩散方法和以前的掺氧法以及掺粉末状硅的真空扩散法相同,前一方法在发射极扩散之后,由于氧化层残留在硅表面上,使得引出发射极电极工艺不太容易,而后一
Japan Fujitsu Institute conducted a source of arsenic, the vacuum diffusion method to prepare the emitter of the transistor research. This method has a significant effect in improving emitter-base and high-frequency characteristics. This arsenic emitter diffusion method and the previous oxygen-doped method and powder doped silicon vacuum diffusion method is the same, the former method after the diffusion of the emitter, the oxide layer remains on the silicon surface, so that the process of drawing the emitter electrode is not too Easy, then one
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