【摘 要】
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运用激光脉冲沉积法(PLD)制备了Ge(S90Se10)2薄膜,通过运用紫外汞灯对制备的薄膜进行不同时间的辐照,我们确定了达到饱和状态所需要的辐照时间(90分钟)。当薄膜处于饱和状态
【机 构】
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武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉理工大学硅酸盐材料工
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运用激光脉冲沉积法(PLD)制备了Ge(S90Se10)2薄膜,通过运用紫外汞灯对制备的薄膜进行不同时间的辐照,我们确定了达到饱和状态所需要的辐照时间(90分钟)。当薄膜处于饱和状态时,巨大的光致漂白效应被观察到了(ΔE=0.36ev)。此外,在本文中,我们也对光致漂白效应的机理进行了阐述,一种新型的光电子材料被发现了。
Ge (S90Se10) 2 thin films were prepared by Laser Pulse Deposition (PLD). The irradiation time (90 minutes) required to reach saturation state was determined by irradiating the prepared films with UV light at different time. When the film was saturated, a huge photobleaching effect was observed (ΔE = 0.36 eV). In addition, in this article, we also explain the mechanism of photobleaching effect, a new type of optoelectronic material was discovered.
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