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本文报道了俄歇参数法用于ＳｉＯ２／Ｓｉ界面层硅过渡态的研究。使用一种新的ＡｌＫα－ＡｇＬα混合Ｘ射线激发源，获得了界面层上Ｓｉ２Ｐ，ＳｉＫＬＬ谱峰。给出了从表面到界面硅的化学状态变化与俄歇参数值。
用俄歇参数法研究SiO2／Si界面层硅元素过渡态
【摘 要】
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本文报道了俄歇参数法用于ＳｉＯ２／Ｓｉ界面层硅过渡态的研究。使用一种新的ＡｌＫα－ＡｇＬα混合Ｘ射线激发源，获得了界面层上Ｓｉ２Ｐ，ＳｉＫＬＬ谱峰。给出了从表面到界面硅的化学状态变化与俄歇参数值。
【机 构】
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北京理化分析中心,北京理化分析中心北京100081,北京100081,北京100081
【出 处】
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分析测试学报
【发表日期】
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1993年6期
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