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使用分子动力学方法研究硅粒子注入技术。系统比较分析了团簇粒子的包含反射,扩散和植入基底在内的全部运动过程,同时使用可视化方法观测记录基底表面形貌演化过程。所建立模型直观地显示了低注入能量域内的新特征。注入过程中,团簇粒子由不同粒径（数量）的硅原子组成。通过对粒径变化在注入过程的影响研究揭示了注入技术机理。仿真结果表明提出方法可用于定量预测注入粒子表面分布。本文工作可作为原子尺度下生成基底表面特征或设计图案的参考,并对可控表面沉积技术提供理论指导。