论文部分内容阅读
研究了记录密度为1Gb/in^2的溅射型软磁盘（SPFD）的可能性。采用带底涂层聚酰亚胺（PI）薄膜作基板，可以控制薄膜释放出的气体，获得高定向的磁层。根据磨擦测定可知，将介质的卷曲降到1mm以下，可将径向摆动降到50nm以下，改善磁头的接触状态。随着旋转速度的增高，SPFD的磨擦力线性下降，在低转速下磨擦力值低于硬磁盘（HD）。据MR磁头测定可知，可以确认能够实现1Gb/in^2记录密度的C／N和PW50，在室温、RH50％环境下具有300小时以上的运行耐久性。