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本文以单层分散理论为指导，制备了SrCl2／SiO2吸附剂。对制备的样品进行XRD检测和氨吸附性能测试，研究了焙烧温度和担载量对氯化锶在粗孔硅胶载体上单层分散效果和吸附特性的影响。研究结果表明：氯化锶在粗孔硅胶载体上分散的适宜焙烧温度为500℃，其分散阈值小于0．3g／g；氯化锶在粗孔硅胶载体上的分散状况不同，其吸附特征也不同；单层分散效果好的吸附剂具有非常良好的吸附稳定性。