【摘 要】
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国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机近期在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为,芯硕半导体(中国)有限公司的
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国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机近期在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为,芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术,填补了国内光刻机在该项领域的空白,并且在国际同类产品中处于先进水平。
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