暂态强热流作用下钨烧蚀过程的分子动力学模拟(英文)

来源 :北京大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:wanghuaimin
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采用分子动力学方法,对金属钨在由离子辐照引起的暂态热流下的烧蚀现象进行研究。建立一维热传模型,通过施加不同能量的热脉冲,研究钨靶材的热响应。计算烧蚀阈值并与理论值进行比较,统计分析烧蚀深度与热脉冲能量的关系。研究热脉冲作用过程中能量的转移分配状况,并对低于和高于烧蚀阈值下的不同能量分布状况进行讨论。从模拟的角度,建立一个对钨在离子辐照下烧蚀过程的初步的物理图像。 The molecular dynamics method was used to study the ablation of tungsten under the transient heat flux caused by ionizing radiation. A one-dimensional heat transfer model is established, and the thermal response of the tungsten target is studied by applying heat pulses of different energies. The ablation threshold was calculated and compared with the theoretical value to statistically analyze the relationship between ablation depth and thermal pulse energy. The energy transfer and distribution in the process of thermal pulse are studied, and the different energy distributions below and above the ablation threshold are discussed. From a simulation point of view, a preliminary physical image of tungsten ablation under ionizing radiation was established.
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