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为了解决在化学机械抛光过程中抛光温度分布不均匀问题，使用叶序仿生抛光垫进行研究，并建立了抛光温度场模型。利用有限元分析软件ANSYS，对抛光温度场进行了仿真分析，获得了抛光垫的叶序参量对抛光温度分布的影响规律。通过对仿真结果进行分析发现，合理选择仿生抛光垫的叶序参数，能够使抛光温度变得更均匀。
基于叶序仿生抛光垫化学机械抛光温度的研究与分析
【摘 要】
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为了解决在化学机械抛光过程中抛光温度分布不均匀问题，使用叶序仿生抛光垫进行研究，并建立了抛光温度场模型。利用有限元分析软件ANSYS，对抛光温度场进行了仿真分析，获得了抛光
【机 构】
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沈阳理工大学研究生学院,海尔集团冰箱开发部
【出 处】
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新技术新工艺
【发表日期】
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2011年10期
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