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在低真空的CVD系统中直接热蒸发SiO粉末并以金为催化剂在硅衬底上制备出大量长达几十微米的硅纳米线（SiNWs），通过X射线衍射谱（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、透射电子显微镜（TEM）、选区电子衍射仪（SAED）和Raman光谱等技术对硅纳米线进行形貌及结构分析．实验结果表明，在不同生长温度下制备得到的硅纳米线质量不同，其中在700℃温区生长的硅线质量最好；与晶体硅Raman的一级散射特征峰（TO）520·3cm^-1相比，纳米硅线的Raman特征峰（TO）红移至514．8cm