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采用等离子体增强化学气相沉积技术（PECVD），以C2H2、H2和N2为反应气体，制备出碳纳米管薄膜．并利用扫描电镜对其进行表征．结果表明，氮气流量对碳蚋米管薄膜的生长起着重要作用，当氮气流量为10sccm时，能获得定向性良好、分布均匀、密度适中的碳纳米管．
氮气对碳纳米管生长的影响
【摘 要】
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采用等离子体增强化学气相沉积技术（PECVD），以C2H2、H2和N2为反应气体，制备出碳纳米管薄膜．并利用扫描电镜对其进行表征．结果表明，氮气流量对碳蚋米管薄膜的生长起着重要作用，当氮气
【机 构】
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渭南师范学院物理与电气工程学院
【出 处】
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西安工程大学学报
【发表日期】
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2013年2期
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