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采用化学气相沉积法（CVD）在覆盖有催化剂薄膜的硅片表面直接制备出碳纳米管阵列，使用透射电镜（TEM）和场发射扫描电镜（FESEM）对其进行了检测，并探讨了实验条件对碳管形貌的影响。结果表明：所制备的碳管具有明显的取向性，能够形成致密有序的碳纳米管阵列；制备催化剂所用的硝酸铁溶液浓度为2mol／L时，最适宜碳管阵列的生长；匀胶机的转速提高，可减小催化剂颗粒直径，增强颗粒分散性，有利于碳管生长；碳纳米管的直径随反应温度的升高和时间的延长而增加，680℃为最佳反应温度；碳管生长模式为顶部生长和底部生长。