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原生掺Si砷化镓单晶微缺陷的研究

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：abdusamat128

【作 者】

：

何宏家  曹福年  范缇文  白玉珂  费雪英  王凤莲  褚一 

【出 处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

1983年06期

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