混合等离子体处理ITO表面对OLED性能的影响

来源 :西安文理学院学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：zjl658788

【摘要】

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氧化铟锡（Indium Tin Oxide,ITO）具有高透光率、导电性能好等特点,作为阳极材料广泛应用于有机电致发光器件（Organic Electro-luminescent Device,OLED）.但是,ITO的表面功函数与

【作者】

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吕建凤黄晓雪牛连斌陈丽佳关云霞王耀

【机构】

：

重庆师范大学物理与电子工程学院,西北有色金属研究院超导材料研究所

【出处】

：

西安文理学院学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2016年2期

【关键词】

：

等离子体氧化铟锡表面功函数紫外吸收率 plasma indium tin oxide surface work function ultraviol

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氧化铟锡（Indium Tin Oxide,ITO）具有高透光率、导电性能好等特点,作为阳极材料广泛应用于有机电致发光器件（Organic Electro-luminescent Device,OLED）.但是,ITO的表面功函数与器件内的空穴传输层NPB的最高电子占有轨道（highest occupied molecular orbital,HOMO）之间存在较高的势垒,导致器件的驱动电压高、工作效率低、寿命短等问题.科学家经研究后发现ITO经氧等离子体的处理可大大提高空穴的注入和器件的稳定性.实验利用

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