【摘 要】
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至今半导体产业发展历经了三个阶段,分别是20世纪50年代诞生的以硅(Si)为代表的第一代半导体材料,及以80年代诞生的砷化镓(GaAs)为代表的第二代半导体材料,和如今以氮化镓(Ga
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至今半导体产业发展历经了三个阶段,分别是20世纪50年代诞生的以硅(Si)为代表的第一代半导体材料,及以80年代诞生的砷化镓(GaAs)为代表的第二代半导体材料,和如今以氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)等宽禁带为代表的第三代半导体材料,且愈来愈被受到高度的重视。以碳化硅(SiC)为例,凭借其禁带宽度大、击穿电场高、热导率大等特性,SiC器件备受期待,但成本相对较高也成为其发展的障碍。
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