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基于DWPI数据库,通过检索、统计和分析国内外CMP抛光垫技术专利申请文献,分析CMP抛光垫技术领域的研究现状,归纳总结CMP抛光技术的研究方向和研究结论,并展望CMP抛光垫技术的发展趋势。
化学机械抛光中抛光垫技术专利文献综述
【摘 要】
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基于DWPI数据库,通过检索、统计和分析国内外CMP抛光垫技术专利申请文献,分析CMP抛光垫技术领域的研究现状,归纳总结CMP抛光技术的研究方向和研究结论,并展望CMP抛光垫技术的
【机 构】
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国家知识产权局专利局专利审查协作四川中心
【出 处】
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重庆电子工程职业学院学报
【发表日期】
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2016年4期
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