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利用微波ECR等离子体增强磁控溅射沉积技术在玻璃表面制备了硅膜.研究了所得硅膜的表面形貌、附着力和化学稳定性及其红外-可见光谱特性.结果表明此法制备的硅膜均匀性好,附着力及化学稳定性高,对近红外波段有较低的透过率和较高的反射率.
用微波ECR等离子体增强磁控溅射沉积法在玻璃上镀膜
【摘 要】
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利用微波ECR等离子体增强磁控溅射沉积技术在玻璃表面制备了硅膜.研究了所得硅膜的表面形貌、附着力和化学稳定性及其红外-可见光谱特性.结果表明此法制备的硅膜均匀性好,附
【机 构】
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大连轻工业学院玻璃及无机新材料研究所,大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室
【出 处】
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玻璃与搪瓷
【发表日期】
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2004年2期
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