机械沉积Cd 镀层的制备及性能研究

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目的制备机械沉积Cd镀层,并研究其组织、性能。方法以分析纯超细镉粉作为镉源,采用机械沉积法并添加复配的活化剂,在Q235基体表面制备了Cd镀层。采用扫描电子显微镜(SEM)及其自带的能谱仪(EDS)分析了镀层的组织形貌和化学成分,采用X射线衍射法(XRD)分析了镀层的物相组成,采用铁试剂法测试分析了镀层的孔隙率,采用划格划线法测试分析了镀层的结合强度,采用电化学极化法、中性盐雾加速腐蚀试验和浸泡试验测试分析了镀层的耐蚀性能。结果机械沉积Cd镀层是镉粉颗粒通过物理结合形成的阳极性保护镀层,镀层没有发现贯通性
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