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硅片经过切片、倒角、双面研磨、抛光等不同的工序加工后,其表面已受到严重的沾污,硅片清洗目的就在于清除晶片表面所有的微粒、金属离子及有机物等沾污.
硅片的化学清洗技术
【摘 要】
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硅片经过切片、倒角、双面研磨、抛光等不同的工序加工后,其表面已受到严重的沾污,硅片清洗目的就在于清除晶片表面所有的微粒、金属离子及有机物等沾污.
【机 构】
：
有研半导体材料股份有限公司
【出 处】
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洗净技术
【发表日期】
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2003年06M期
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