磁控溅射氧化钒薄膜的相成分及电阻-温度特性

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：weiwen2100000

【摘要】

：

采用磁控溅射法在p-Si(100)衬底上制备了VOx薄膜.利用X射线衍射(XRD)分析、原子力显微镜(AFM)及四探针测试方法,研究了制备工艺条件对薄膜的相成分和电阻-温度特性的影响,并

【作者】

：

王银玲李美成赵连城

【机构】

：

哈尔滨工业大学

【出处】

：

稀有金属材料与工程

【发表日期】

：

2005年7期

【关键词】

：

氧化钒电阻-温度特性热稳定性相变 vanadium oxide resistance-temperature characteristic therm

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采用磁控溅射法在p-Si(100)衬底上制备了VOx薄膜.利用X射线衍射(XRD)分析、原子力显微镜(AFM)及四探针测试方法,研究了制备工艺条件对薄膜的相成分和电阻-温度特性的影响,并测试分析了薄膜的电学热稳定性.结果表明:通过这种方法制备的氧化钒薄膜具有较高的电阻温度系数及良好的电学热稳定性,可作为微测辐射热计的热敏材料.

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