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研究了用直流反应磁控溅射法在无机玻璃基片上制备ＩＴＯ透明导电膜的工艺；测试了膜的电阻率，对可见的透射率及对垂直入射微波的反射率和透射率；研究了反应测身时氧深度，溅射后退火气氛对电阻率和透光度的影响；ＩＴＯ膜方块电阻对微波反射率和透射率的影响。
ITO透明导电膜的制备及性能
【摘 要】
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研究了用直流反应磁控溅射法在无机玻璃基片上制备ＩＴＯ透明导电膜的工艺；测试了膜的电阻率，对可见的透射率及对垂直入射微波的反射率和透射率；研究了反应测身时氧深度，溅射后退火气氛
【机 构】
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北京航空航天大学１０２教研室
【出 处】
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航空学报
【发表日期】
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1996年1期
【基金项目】
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航空工业总公司“八五”重点预研资助
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