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开发出场截止型IGBT并深入研究了场截止型IGBT的核心技术和关键工艺.相比非穿通型IGBT,通过场截止层的形成,芯片厚度降至105 μm,器件导通压降低于2V,关断时间小于250 ns,电学性能得到了显著提高.IGBT应用于电磁炉,在不同功率下的管壳温升为25℃~35℃,远低于非穿通型IGBT,达到了更低的能量损耗.