p-Si基PTCDA生长模式的AFM和XPS研究

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:fisher58
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
对有机/无机光电探测器PTCDA/p-Si样品的表面进行得AFM扫描看出,PTCDA呈岛状生长,各岛成圆丘状,岛的分布不均匀,PTCDA层中存在大量缺陷.原因是p-Si(100)衬底的表面原子悬挂键的作用,使硅原子横向移动满足键合需要形成台阶和其它缺陷引起的.将样品表面的XPS全谱及精细谱与表面的AFM扫描图进行对比分析,得出PTCDA在p-Si基底上的生长模式,即:PTCDA首先在缺陷处聚集,形成许多三维岛状的PTCDA晶核,然后在PTCDA离域大π键的作用下,相邻的两层PTCDA分子存在一定程度的交叠
其他文献
以丙烯酸(AA)、2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(AMPS)和次磷酸钠(NaH2PO2.H2O)为单体,水为溶剂,过硫酸铵为引发剂,合成了含膦丙烯酸-AMPS二元共聚物(YSS-96),并对其阻垢和缓蚀性能进行了评定,结果表明,谝共聚物不仅具有优良的阻垢分
目的探讨不同剂量硼替佐米对多发性骨髓瘤患者临床疗效的差异性。方法选取接受治疗的多发性骨髓瘤患者41例,采用硼替佐米皮下注射或者静脉推注,分为1.6 mg/m~2、1.0~1.3 mg/m~