【摘 要】
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在半导体工艺中,清洗是关键工艺之一。我们生产线主要生产各种CMOS IC,多年来都是采用强酸、强碱以及各种有机溶剂,这些化学试剂要求纯度高,而且价格昂贵,具有毒性和腐蚀性、
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在半导体工艺中,清洗是关键工艺之一。我们生产线主要生产各种CMOS IC,多年来都是采用强酸、强碱以及各种有机溶剂,这些化学试剂要求纯度高,而且价格昂贵,具有毒性和腐蚀性、并会造成污染。而811、812活性剂是一种无毒无腐蚀、价格便宜、操作方便的清洗剂,用811、812代替酸碱清洗硅片,将会显示出更多的优越性。
In semiconductor processes, cleaning is one of the key processes. Our production line mainly produces all kinds of CMOS ICs. For many years, we have used strong acids and bases as well as various organic solvents. These chemicals require high purity, are expensive, toxic and corrosive, and cause pollution. The 811,812 active agent is a non-toxic non-corrosive, cheap, easy to use cleaning agents, instead of acid-base 811,812 wafer cleaning, will show more advantages.
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