多孔硅结构与发光机理的非线性光学研究

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【摘要】

：

最近的研究中,采用1.06μm超短脉冲光激发,在多孔硅表面观察到了有效的红外多光子激发的荧光发射.研究表明,这是一个增强的三阶非线性光学过程.本文利用其三阶非线性特性对具有强可见光发射的多孔硅结构进行了研究,结果显示晶体硅的各向异性特征在多孔硅中几乎被保留;此外,较强的激光激发导致的红外上转换荧光信号衰减过程被归结为与多孔硅表面氢的脱附有关.

【作者】

：

王健蒋红兵王文澄郑家骠张甫龙郝平海候晓远王迅

【机构】

：

复旦大学三束材料改性国家重点实验室,上海200433复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海200433

【出处】

：

光学学报

【发表日期】

：

1993年13期

【关键词】

：

多孔硅红外多光子激发荧光产生三阶非线性光学过程三次谐波 porous silicon infrared-upconversion luminese

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