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本文介绍一种深U型槽隔离CMOS工艺技术,对工艺实施中的若干问题进行了讨论,并对器件特性进行了分析。
深槽隔离CMOS工艺技术
【摘 要】
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本文介绍一种深U型槽隔离CMOS工艺技术,对工艺实施中的若干问题进行了讨论,并对器件特性进行了分析。
【机 构】
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韶光微电子公司,骊山微电子学研究所
【出 处】
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微电子学与计算机
【发表日期】
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1990年5期
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