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对低温等离子体技术降解全氟化合物的研究现状、新型技术、成果、存在的问题以及发展方向做了全面综述。着重总姑了微波等离子体技术、水等离子体技术、填充床等离子体技术等。简要阐明了低温等离子体技术对全氟化合物的去除机理，以及微波等离子体技术和水等离子体技术对CF4的降解机理。最后总结低温等离子体技术对全氟化合物降解的发展前景。