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分析表明,微电子产品在制造过程中由于污染物的影响,降低了合格率,需要进行有效的清洗。阐述微电子工艺中的湿法清洗、干法清洗技术,现状与技术发展的展望。
微电子工艺中的清洗技术进展
【摘 要】
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分析表明,微电子产品在制造过程中由于污染物的影响,降低了合格率,需要进行有效的清洗。阐述微电子工艺中的湿法清洗、干法清洗技术,现状与技术发展的展望。
【机 构】
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重庆玖米电子科技有限公司,四川铁道职业学院
【出 处】
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集成电路应用
【发表日期】
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2020年6期
【基金项目】
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重庆市中小企业科技创新课题项目
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