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综述了碳化硼材料的主要性能和制备碳化硼薄膜的主要方法，讨论了包括磁控溅射、离子束沉积和化学气相沉积等制备方法的优点及重要工艺参数，并就各方法指出了提高薄膜性能的主要措施，指出制备出更均匀、致密的碳化硼薄膜，提高薄膜与基体间的结合力，降低薄膜应力仍是今后研究的重点。
碳化硼薄膜制备的研究进展
【摘 要】
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综述了碳化硼材料的主要性能和制备碳化硼薄膜的主要方法，讨论了包括磁控溅射、离子束沉积和化学气相沉积等制备方法的优点及重要工艺参数，并就各方法指出了提高薄膜性能的主要
【机 构】
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四川大学物理系和辐射物理及技术教育部重点实验室
【出 处】
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材料导报：纳米与新材料专辑
【发表日期】
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2008年3期
【基金项目】
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国家863计划项目资助课题（2007AA804406）
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