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考虑厚胶曝光过程中非线性因素的影响及其显影特点，用一套随抗蚀剂厚度发生变化的曝光参数改进的Dill曝光模型，仿真厚层抗蚀刺光刻过程，并比较新曝光模型与原有Dill模型模拟的结果差异。模拟显示，用新曝光模型获得的厚抗蚀剂显影轮廓与实验结果吻合较好；并对厚胶光刻成像机理进行了讨论。通过分析正性厚层抗蚀刑AZ4562的显影轮廓，给出其显影线宽及边墙陡度随显影时间的变化规律，提出应以获得最大边墙陡度作为优化显影时间的思想。对厚度5pm和15pm的抗蚀剂，经计算，可获得良好的抗蚀剂浮雕轮廓的优化显影时间分别为98s