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用ＡＥＳ方法原位研究了离子束溅射Ｔｉ和Ｎｉ元素成膜的初生模式，它们在单晶Ｓｉ上以层状ＦＭ模式生长，其成膜速率与其溅射产额有关。
离子束溅射Ti和Ni薄膜的初生过程
【摘 要】
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用ＡＥＳ方法原位研究了离子束溅射Ｔｉ和Ｎｉ元素成膜的初生模式，它们在单晶Ｓｉ上以层状ＦＭ模式生长，其成膜速率与其溅射产额有关。
【机 构】
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上海交通大学
【出 处】
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材料研究学报
【发表日期】
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1996年5期
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