【摘 要】
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据《Semiconductor International》杂志1992年2月号报导,移相光刻是近几年来出现的最热门技术。它只采用移相中间掩模,就可在不缩短曝光波长或增大镜头数值孔径的
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据《Semiconductor International》杂志1992年2月号报导,移相光刻是近几年来出现的最热门技术。它只采用移相中间掩模,就可在不缩短曝光波长或增大镜头数值孔径的
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