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通过显影过程对光致抗蚀剂光栅负一级衍射效率的观测,实现了分布反馈(DFB)光栅掩膜槽深和形状的最佳控制。该技术适用于各种集成光学波导光栅的制备。
制备光致抗蚀剂光栅掩膜的衍射控制技术
【摘 要】
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通过显影过程对光致抗蚀剂光栅负一级衍射效率的观测,实现了分布反馈(DFB)光栅掩膜槽深和形状的最佳控制。该技术适用于各种集成光学波导光栅的制备。
【机 构】
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中国科学院长春物理所,中国科学院长春物理所
【出 处】
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光学机械
【发表日期】
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1990年3期
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