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本文以亚微米工艺的批量生产为目的,对匀胶/显影机及有关光刻胶处理系统的一些设备的国内外的概况做一综述。
国内外光刻胶处理装置的发展概况
【摘 要】
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本文以亚微米工艺的批量生产为目的,对匀胶/显影机及有关光刻胶处理系统的一些设备的国内外的概况做一综述。
【机 构】
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七0九厂722405陕西蔡家坡
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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1991年5期
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