【摘 要】
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对含硅量为8%～12%的ZL系列铸铝合金的微弧氧化工艺条件、膜层结构以及成膜过程进行了研究. 结果表明: 采用不对称交变电压和在以硅酸钠为主要成分的复合电解液体系中, 铸铝合
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对含硅量为8%～12%的ZL系列铸铝合金的微弧氧化工艺条件、膜层结构以及成膜过程进行了研究. 结果表明: 采用不对称交变电压和在以硅酸钠为主要成分的复合电解液体系中, 铸铝合金表面可获得一层性能优异的微弧氧化膜层.电子能谱(EDS)和X射线衍射(XR D)分析结果表明微弧氧化膜主要由Al, Si和O元素组成, 膜的相结构主要为η -Al 2O3, α -Al2O3和SiO2, 并含有γ -Al2O3和Mg, W, Cu等元素的氧化物. 扫描电镜(SEM)分析表明微弧氧化膜由致密层(内层)和疏松层(外层)构
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