论文部分内容阅读
在CCD、CMOS等硅基光电成像器件的光敏面镀下变频薄膜将紫外波段的光变为可见波段的光，可实现CCD、CMOS等硅基光电成像器件的紫外响应。考虑ZnzSiO4：Mn粒子直径小，稳定性好，荧光量子效率高等优点，本文用“旋涂法”在石英基底上生成Zn3SiO4：Mn紫外增强薄膜，并对其透射光谱、吸收光谱、激发光谱与发射光谱等光学性质进行分析。实验测得薄膜在300nm以下透过率极低并具有很强的吸收，在300nm以上透过率很高且吸收很弱；激发峰在260nm，发射峰在525nlTl，可以实现将紫外光转化为可见光。分析