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采用紫外-可见光谱法研究了甲基橙在聚吡略/纳米SiO2复合材料（PPy/n-SiO2）上的氧化性能.结果 表明：在弱酸性介质中,PPy/n-SiO2对甲基橙的氧化性能明显优于聚吡略;反应5 ～40 min时,甲基橙氧化反 应符合表观一级反应动力学;反应60 min时,甲基橙的降解率可达到94.7% ;PPy/n-SiO2经二次回收再生后, 反应60 min时甲基橙降解率为96. 5% .