中频反应磁控溅射Al2O3薄膜的光学性质

来源 :东北大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：lidcc

【摘要】

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采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al2O3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其他物理特性的方法.对Al2O3薄膜进行透

【作者】

：

廖国进闻立时巴德纯刘斯明

【机构】

：

东北大学机械工程与自动化学院,中国科学院金属研究所表面工程部,北京航空航天大学机械工程与自动化学院

【出处】

：

东北大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2007年5期

【关键词】

：

AL2O3薄膜光学性质折射率吸收系数膜厚度 Al2O3 thin film optical property refractivity absor

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采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al2O3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其他物理特性的方法.对Al2O3薄膜进行透射谱测量,通过对薄膜折射率、吸收系数、膜厚度与入射光波长相互关系的分析,获得了Al2O3薄膜在400-1100 nm区域内的折射率、吸收系数与入射光波长的关系式,以及Al2O3薄膜厚度的计算公式.

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