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采用红外光谱研究（NH4）2SiF6处理的KL沸石样品的骨架Si/Al与吸收带频率的关系。在－770cm^-1附近吸收带的频率与沸石骨架Al的摩尔分数XAl（即Al/(Si+Al））间存线形关系：XAl=-7.309×10×－3（v770-760)+0.3242。这一结果与化学分析结果一致。
中孔L型沸石骨架Si/Al的红外光谱测定
【摘 要】
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采用红外光谱研究（NH4）2SiF6处理的KL沸石样品的骨架Si/Al与吸收带频率的关系。在－770cm^-1附近吸收带的频率与沸石骨架Al的摩尔分数XAl（即Al/(Si+Al））间存线形关系：XAl=-7.309×
【机 构】
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湘潭大学化学学院,东南大学分子电子学院实验室
【出 处】
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化工时刊
【发表日期】
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2002年4期
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