【摘 要】
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利用微波等离子体化学气相沉积法在CH4/H2反应气体中引入不同低浓度氮气条件下,研究氮气对单晶金刚石生长质量的影响.利用发射光谱、拉曼光谱以及扫描电子显微镜对单晶金刚石
【机 构】
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武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室 武汉,430073
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利用微波等离子体化学气相沉积法在CH4/H2反应气体中引入不同低浓度氮气条件下,研究氮气对单晶金刚石生长质量的影响.利用发射光谱、拉曼光谱以及扫描电子显微镜对单晶金刚石质量进行表征.结果表明:随着气源中氮气浓度的增加,单晶金刚石增长速率随之增加,表面多晶缺陷得到抑制,且Raman光谱法测得一阶特征拉曼峰随着氮气浓度的提高而向高波数移动,呈现出压应力,整体质量变差.经过退火过程之后,引入氮原子的单晶金刚石生长拉应力得到释放,样品呈现出拉应力.
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