铜及铜合金全光亮化学抛光新工艺

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本文介绍一种含H2O2-H2SO4及高效添加剂体系的铜及铜合金化学抛光新工艺。它能获得全光亮的加工表面;溶液成份简单、稳定、使用寿命长、成本低、无毒性、可连续补充使用。文章探讨了化学抛光的机理,并对工艺流程及配方,各成份作用与影响,溶液配制与生产过程中需注意的事项都作了详细说明,便于生产实践、推广使用。
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