论文部分内容阅读
20010401 使用液态原材料和直流等离子物理气相沉积法制备SiC涂层--Wilden J. Galvanotechnik, 2000.91(6):1 680(德文)rn 示出了Si-C相图，给出了SiC涂覆工艺的文献评述，着重于涂层成分和化学计算值的差别，详细介绍了使用单独预合成三氯甲硅烷和三甲氯硅烷的实际生产情况。无氯的预合成物还包括：六甲撑乙硅氧烷、六甲撑乙硅烷和六甲基撑环三硅乙烷。概略示出了预合成料的处理及主气线路回路，详细介绍了CVD的工艺参数及涂层分析方法。rn20010402 大批量低成本生产精密零件的优质PVD涂层--Hans M. Surface and Coatings Technology, 2000,123(2 ～3)：288(英文)rn Me-C：H涂层被成功地应用于精密零件(主要是汽车零件)上，以减少磨损，并要求达到产量高、工艺可靠、成本低的要求。开发出专用的PVD装置，按集群组合方式安装于机械加工生产线上，达到高产低成本进行沉积的目的。介绍了第一批结果及机械的照相制版。