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采用蒙特卡罗方法，对以CH4／Hz为源料气体的电子助进化学气相沉积（EACVD）金刚石中的氢原子（Hα,Hβ，Hγ）、碳原子C（2p3s→2p^2：λ=165．7nm）以及CH（A^2△→X^2Ⅱ：λ=420～440m）的发射过程进行了模拟，研究了不同CH4浓度下各发射谱线的空间分布。结果表明，不同CH4浓度下各发射谱线在反应空间的大部分区域内均随距灯丝距离的增大而增大，而当到达基片表面附近时有所减弱。随着CH4浓度的增加，H谱线强度减弱，CH与C谱线强度增强。