【摘 要】
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通过采用三区平板模型和线性化的磁流体力学方程组,在不可压缩的条件下得到了增长率满足的色散关系.给出了增长率随内爆加速度的变化关系,随着内爆加速度的增加,增长率也不断
【机 构】
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中国工程物理研究院研究生部,北京应用物理与计算数学研究所
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通过采用三区平板模型和线性化的磁流体力学方程组,在不可压缩的条件下得到了增长率满足的色散关系.给出了增长率随内爆加速度的变化关系,随着内爆加速度的增加,增长率也不断增加.可以看出,在存在轴向磁场的情况下,对MRT不稳定性的发展有明显的抑制效果.另外,还给出了不同纵横比下内外界面扰动随时间的变化关系,可以看出在6~8之间,外界面对内界面的影响较小.虽然更小的纵横比可以让外界面扰动对内界面扰动的影响变得更小,但是这样不利于实验室的内爆过程;而更高的纵横比意味着更薄的套筒,不但会使MRT不稳定性对内界面的影响增
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