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金刚线切多晶硅片湿法黑硅技术研究进展
金刚线切多晶硅片湿法黑硅技术研究进展
来源 :广东化工 | 被引量 : 0次 | 上传用户:luocai1982
【摘 要】
:
金刚线切多晶硅片技术能提高出片率、有效降低硅片生产成本:而湿法黑硅技术不仅能有效解决金刚线切多晶硅片表面反射问题,还能带来电池效率增益。本文研究了湿法黑硅技术的几种
【作 者】
:
陈文龙
孟召标
【机 构】
:
保利协鑫能源控股有限公司科技管理部
【出 处】
:
广东化工
【发表日期】
:
2017年12期
【关键词】
:
金刚线切
多晶硅片
湿法黑硅
dialnond wire sawn polycrystalline silicon wafer wet black-silico
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金刚线切多晶硅片技术能提高出片率、有效降低硅片生产成本:而湿法黑硅技术不仅能有效解决金刚线切多晶硅片表面反射问题,还能带来电池效率增益。本文研究了湿法黑硅技术的几种工艺路线、不同金属辅助催化体系、专利分布及产业化现状,指出其具有良好的产业化前景。
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