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本文叙述了电阻加热蒸发和电子束加热蒸发真空镀膜机的进展。其次对蒸发源和蒸发速率、真空度对铝膜质量的影响、减少污染和电子束蒸发以及镀膜厚度及均匀性控制等作简单介绍。
光学薄膜用真空镀膜机的进展
【摘 要】
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本文叙述了电阻加热蒸发和电子束加热蒸发真空镀膜机的进展。其次对蒸发源和蒸发速率、真空度对铝膜质量的影响、减少污染和电子束蒸发以及镀膜厚度及均匀性控制等作简单介绍
【机 构】
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机电部第四十研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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1991年2期
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