轨道电磁发射装置中电枢装配接触压力分布的不均匀特性

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为对电磁发射矩形炮膛用一体化C形电枢结构进行优化设计,基于仿真计算研究了电枢装配接触压力分布不均匀特性。通过模拟电枢轨道的装配过程,利用ABAQUS有限元分析软件,计算了初始静态情况下不同结构电枢与轨道的接触压力分布。仿真验证了电枢装配接触压力的不均匀分布,同时根据压强分布云图,提出并定义了4个不均匀系数,分别表征接触压力横向、纵向、总体、局部分布的不均匀程度。这些不均匀系数的取值范围都介于0~1之间,其值越大,对应分布的不均匀程度就越小,即分布越均匀。基于进一步计算,获得了各不均匀系数随基本电枢结构参数的变化规律:各不均匀系数受电枢过盈量的影响较小,随电枢尾翼长度增加变小,随电枢肩部厚度增加变大;而随翼尖厚度变化呈现不同变化趋势。 In order to optimize the design of the integrated C-shaped armature structure for the electromagnetic gun fired rectangular barrels, the uneven distribution of the contact pressure of the armature assembly was studied based on the simulation calculation. By simulating the process of armature orbit assembly, the contact pressure distribution of armature and track with different structures under the initial static condition was calculated by ABAQUS finite element analysis software. The non-uniform distribution of the contact pressure of the armature assembly was verified by simulation. At the same time, four non-uniform coefficients were proposed and defined according to the pressure distribution cloud chart, which respectively characterize the contact pressure horizontal, vertical, overall and local distribution unevenness. The range of these nonuniform coefficients ranges from 0 to 1. The larger the value is, the smaller the non-uniform distribution is and the more uniform the distribution is. Based on the further calculation, the variation rules of the non-uniform coefficients with the basic armature structure parameters are obtained. The non-uniform coefficients are less affected by the armature interference and increase with the increase of the length of the armature tail, Increase with the increase; with the tip thickness changes showed different trends.
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