磁性薄膜技术的新进展：数字VTR磁头用亚微米结晶膜

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【摘要】

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日本Alps电气公司开发成功一种称之为“Hiper－Nancmax”的亚微米结晶薄膜，这是一种磁致伸缩常数小至10－4，而兼备了优越耐腐蚀能的铁、硅、铝、铝、碳（Fe－Si－Al－Hf－C）系合金。目前的实际

【作者】

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屠友灿

【出处】

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磁记录材料

【发表日期】

：

1994年4期

【关键词】

：

磁性薄膜磁头亚微米结晶膜

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日本Alps电气公司开发成功一种称之为“Hiper－Nancmax”的亚微米结晶薄膜，这是一种磁致伸缩常数小至10－4，而兼备了优越耐腐蚀能的铁、硅、铝、铝、碳（Fe－Si－Al－Hf－C）系合金。目前的实际应用目标正指向数字VTR的高密度磁记录用磁头。所开发的铁系亚微米结晶薄膜，其重量百分组成为74．SFe一至2．ISi4．gA13．0Hfs．2C饱和磁化强度为1．3——1．4T，矫顽力为0．24A／m（0．3oe），初始导磁率在工MHZ频率下高达8000，饱和磁致常数几乎等于0，总之，各项磁特性都很优

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