氮气氛中高温热处理硅片表面的直接氮化

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：panxi1210

【摘要】

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研究了直拉硅单晶片在氮气氛下热处理时的表面氮化，利用了XPS(X射线光电子谱)、SEM(扫描电子显徽镜)、金相显微镜、XRD(X射线衍射仪)等手段研究了在高纯氮和非高纯氮保护条件

【作者】

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祝洪良杨德仁汪雷裴艳丽阙端麟张寒洁何丕模

【机构】

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浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江大学物理系

【出处】

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半导体学报

【发表日期】

：

2003年10期

【关键词】

：

氮化硅 X射线光电子谱氮化 silicon nitride XPS nitridation

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研究了直拉硅单晶片在氮气氛下热处理时的表面氮化，利用了XPS(X射线光电子谱)、SEM(扫描电子显徽镜)、金相显微镜、XRD(X射线衍射仪)等手段研究了在高纯氮和非高纯氮保护条件下不同温度热处理后的榉品表面，结果发现只有用高纯氮保护和温度高于1100℃的条件下，氮气才能与硅表面发生反应，生成氮花硅(Si3N4)薄膜，否则氮保护中微量的氧气会和硅表面发生反应，生成二氧化硅(SiO2)薄膜．

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